公司半导体研究所近日发布招聘启事，开发满足92%EUV透过率的薄膜。
 

  目前，三星电子已开发出透光率为88%的薄膜。这意味着科技巨头我国已经在大约一年的时间内实现了目标，并制定了新的发展路线图，其中包括将数据传输速度提高4 个百分点。
 

  三星电子也开始研究高数称为下一代EUV  工艺的孔径(NA) 薄膜。公司在最新的招聘启事中提到了基于新材料的新一代薄膜的开发。他宣布将与外部研究机构合作开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV  薄膜。该公司还计划挑选研究人员负责开发用于大规模生产自己的纳米石墨薄膜(NGF) 的设施。
 

  EUVpellicle  是在曝光过程中使用光在半导体晶圆上印刷电路形状所需的材料。它们充当涂层，防止异物粘附在面罩上。该薄膜通过最大限度地减少过程中的缺陷和延长昂贵掩模的使用寿命来帮助降低成本。
 

  然而，由于大多数材料吸收紫外线的性质，商业化一直很困难。专家表示，三星电子虽然提高了薄膜技术水平，但尚未将这种材料引入其DRAM流延/生产线，认为将这种材料应用于量产线还为时过早。
 

  自2019 年以来，三星电子的竞争对手台积电一直在其大规模生产线上使用专有的EUV  颗粒。 2021年，这家台湾制造巨头宣布将EUVpellet的产能比2019年提高20倍。